【单选题】

刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被()覆盖及保护的部分,以化学作用或是物理作用的方式加以去除,以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。

A、 二氧化硅

B、 氮化硅

C、 光刻胶

D、 去离子水


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